設備型號：AF-15C 本設備是為了調整晶體諧振器的頻率而開發，由上下料（上下料自帶電清洗功能）、準備室和處理室兩個艙室構成，采用單側進單側出的方式。搭載晶體的載盤在大氣側經過電清洗后設置到規定位置后，在準備室進行真空排氣，運送到處理室，在處理室用離子槍產生的氬Ar離子蝕刻金屬電極膜。同時用網絡分析儀計測和控制經過蝕刻后頻率的變化調整到目標頻率。頻率調整結束后的載盤被搬送到準備室，和待處理的載盤調換后被搬運到兩艙室外運送回提籃。