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全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)

所屬分類: 產(chǎn)品中心
設(shè)備型號(hào):PVD-2500 本設(shè)備由準(zhǔn)備室,預(yù)備室 ,濺鍍室,抽真空系統(tǒng),濺射鍍膜系統(tǒng),基板加熱裝置構(gòu)成。準(zhǔn)備室:可同時(shí)裝納10組鍍膜夾具(每膜3-4片Mask載盤)。預(yù)備室對(duì)基板加熱能力達(dá)到150度,濺鍍室:含陰極電極(Cr,Ag用)2片/陰極,DC電源,DC電源切換器,真空系統(tǒng):渦輪分子泵; 2 套,施轉(zhuǎn)式油泵; 2 套組成。具備氬離子電轟擊功能。
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全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)
產(chǎn)品描述

一、設(shè)備簡(jiǎn)介

1.預(yù)備室:可同時(shí)裝納10片鍍膜夾具(最多每膜4片載盤)。
2.真空槽:準(zhǔn)備室,濺射室,基板加熱絲,溫度探頭,載盤移動(dòng)機(jī)構(gòu),真空排氣機(jī)構(gòu),濺射室內(nèi)部防護(hù)板,陰極防護(hù)板(Cr,Ar用),擴(kuò)散防護(hù)板(Cr,Ar用)。
3.濺射系統(tǒng):陰極電極(外置式磁控陰極),DC電源,DC電源切換器。
靶材尺寸(壓條式):
126mm*178mm*6mm(低效靶材)
126mm*178mm*7mm(高效靶材)
4.基板加熱系統(tǒng):準(zhǔn)備室:鹵素?zé)艏訜?KW-1.5KW,濺射室:脫氣加熱功能。
5.基板加熱能力:150度。
6.具備電清洗DC轟擊功能。
7.節(jié)拍,傳輸速度:鍍膜時(shí) 1-75mm/s(根據(jù)提供膜厚可進(jìn)行設(shè)定)
循環(huán)節(jié)拍:
使用測(cè)試搬運(yùn)模式,測(cè)定各貨架成膜后返回到貨架柜的時(shí)間,將該時(shí)間作為貨架間的1個(gè)時(shí)間周期。4分30秒/循環(huán)(1膜)
設(shè)定條件:
01:Cr濺射搬運(yùn)速度 30 mm/sec
02:Ag濺射搬運(yùn)速度5mm/sec
03:移動(dòng)速度75 mm/sec                           
二、設(shè)備特點(diǎn)
本設(shè)備由準(zhǔn)備室,預(yù)備室 ,濺鍍室,抽真空系統(tǒng),濺射鍍膜系統(tǒng),基板加熱裝置構(gòu)成。準(zhǔn)備室:可同時(shí)裝納10組鍍膜夾具(每膜3-4片Mask載盤)。預(yù)備室對(duì)基板加熱能力達(dá)到150度,濺鍍室:含陰極電極(Cr,Ag用)2片/陰極,DC電源,DC電源切換器,真空系統(tǒng):渦輪分子泵; 2 套,施轉(zhuǎn)式油泵; 2 套組成。具備氬離子電轟擊功能。
三、設(shè)備參數(shù)(通用型)

設(shè)備參數(shù)
項(xiàng)目 單位 參數(shù)
極限真空 Pa 5.0*10-4[Pa]
適用靶材   Ag、Cr、Au、Cu
成膜晶片散差   ±500PPM(中頻)
高效靶材適用時(shí)間 min ≥3500分鐘
靶材使用效率   >42%
月產(chǎn)能   1000-1500萬(wàn)
供電電源   3φ,AC380V,50/60HZ

服務(wù)熱線

地址:天津?yàn)I海高新區(qū)塘沽海洋科技園新北路4668號(hào)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園30-A號(hào)廠房一層局部和西二層 

郵箱:ywb@gti-tj.cn

官方手機(jī)站

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